超声波清洗系统的精密光学

指定用于精密光学的超声波清洁系统需要建立光学清洁要求的光学制造商与提供设备和化学品以满足这些要求的公司的工程师之间的密切合作。 指定清洁设备和程序不是本文的目的。 相反,我们的目标是提供Elmasonic设备清洁眼科光学的概述。

其设备范围广泛,从单个清洗罐到完全自动化的多级洗涤 - 干洗清洁线,在洁净室。 我们将简要介绍为模具制造到清洁检查和涂层清洁等特定功能配制的清洁化学品。

支持清洁光学的其他设备包括水处理厂,过滤系统,溶剂处理设备和层流空气流模块以支持洁净室。

除了为设备和化学品提供这些介绍之外,我们的职责是让您与清洁眼科光学设备专家联系,并根据需要进行跟踪,以确保您的规格得到满足。

清洁精密光学简介

基本清洁和冲洗系统

该Elmasonic的X TRA的Flex线 ,可作为一个单一的洗涤装置的Flex 1,并与随行清洗机作为一个Flex 2系统都共用一个支撑架。 该系统设计用于水性清洁溶液。 清洗和冲洗槽配备提供±2cm垂直振荡,一种技术证明大大增强清洗行动。 这些单元可以在双频模式下购买,25/45 kHz或35/130 kHz。 清洁和漂洗篮可以放置在水箱上方的特殊支架上,从而有效地滴出液体。 **多可以容纳5个用户定义的清洁程序。

X-tra Flex Line配备了加热器和定时器,除去新鲜清洗溶液中的夹带空气的脱气模式,以及在浴缸中均匀分配清洗能量的扫描模式。 可选配的泵过滤器可帮助延长清洗槽的使用寿命。 冲洗罐可以配备使用城市或去离子水的淋浴冲洗站。 该生产线有5个罐容量,从8.5到44加仑不等。

手动和自动精密光学清洁线

上述X-tra Flex Line可以通过结合一个或多个清洗和冲洗站,然后在Elma X-tra Pro配置中的干燥站进行扩展。 这些单元可以在开始时组合或当需要时添加。 它们可以配备以支持在清洁,冲洗和干燥站之间手动运输产品,或者通过触摸屏管理的自动清洁,冲洗和干燥,以控制和监控处理和运输。

用溶剂清洗光学产品

当使用易燃溶剂去除保护漆时,需要使用特殊设计的超声波清洗器。 Elmasonic X-tra LSM设计用于闪点等于或高于55℃的溶剂,例如NEP(N-乙基-2-吡咯烷酮)或NMP(N-甲基-2-吡咯烷酮)。 它们具有防止爆炸性气体形成的内置保护,并且可选配有可选的溶剂冷却系统,以减少蒸汽的产生。 双频(25或45 kHz)X-tra LSM单元应在通风良好的区域工作,理想情况下配备排气系统和灭火系统。

配件设备

  • 如上所述,溶剂回收系统可用于通过分离出可溶性污染物来延长溶剂寿命
  • 容量为每小时100**2500升的水处理厂
  • 泵和过滤器单元,用于从清洁溶液和冲洗水中去除微粒
  • 层流模块,以产生洁净室条件
  • 干燥器可以指定为过滤循环热空气或红外线

清洁溶液的精密光学

除了上述溶剂之外,还有可生物降解的水基清洁溶液,以支持精密光学制造的每个阶段 - 用于形成光学器件的光学器件和模具。 它们的范围从中性到轻度和强碱性。 虽然将为特定过程开发特定的清洁程序,这里是水性清洁剂的几个实例:

  • 中性清洁浓缩物elma clean 320是专为精密光学眼镜使用软化水去除灰尘,指纹和其他轻微的有机和无机污染物。
  • 中性泡沫抑制elma清洁260浸渍和喷溅从超声波清洁剂或喷雾中去除玻璃表面的油,指纹和灰尘。
  • 在使用有机和无机高精度光学玻璃之前,使用弱碱性elma clean 310进行清洁,以去除灰尘,指纹,轻油和油脂以及树脂残留物。
  • 弱碱性elma tec清洁剂A1用于精细清洁玻璃基板,玻璃和光学组件。
  • 碱性elma clean 300设计用于在涂覆有机和无碱玻璃以及**终模具清洁之前进行清洁。 它可以去除灰尘,指纹,油渍和油脂痕迹。

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